Tibco News, 30 ta 'Ġunju, il-gvern Olandiż ħareġ l-aħħar regolamenti dwar il-kontroll tal-esportazzjoni ta' tagħmir semikonduttur, xi midja interpretaw dan bħala l-kontroll tal-fotolitografija kontra ċ-Ċina għal darb'oħra eskala għad-DUV kollha.Fil-fatt, dawn ir-regolamenti ġodda ta 'kontroll ta' esportazzjoni jimmiraw teknoloġiji avvanzati ta 'manifattura ta' ċippa ta' 45nm u taħt, inkluż tagħmir ta 'depożizzjoni atomika ALD ta' l-aktar avvanzata, tagħmir ta 'tkabbir epitassjali, tagħmir ta' depożizzjoni fil-plażma u sistemi ta 'litografija ta' immersjoni, kif ukoll it-teknoloġija, softwer użat li tuża u tiżviluppa tali tagħmir avvanzat.
Fi stqarrija lil Tibco, ASML enfasizza li r-regolamenti ġodda tal-kontroll tal-esportazzjoni tal-gvern Olandiż ikopru biss xi wħud mill-aħħar mudelli DUV, inklużi t-TWINSCAN NXT:2000i u sistemi ta 'litografija ta' immersjoni sussegwenti.Il-litografija EUV kienet ristretta qabel, u l-ġarr ta 'sistemi oħra mhuwiex ikkontrollat mill-gvern Olandiż.Skont l-informazzjoni tal-websajt uffiċjali tal-ASML, sistema ta 'litografija ta' immersjoni DUV, inkluż: TWINSCAN NXT:2050i, NXT:2050i, NXT:1980Di tliet magna tal-litografija, dawn jistgħu jwettqu proċessar ta 'wejfer ta' proċess ta '38nm ~ 45nm.
Barra minn hekk, magni tal-litografija DUV niexfa kapaċi jipproċessaw wafer 'il fuq minn 45nm, bħal proċess ta' 65nm ~ 220nm, bħal TWINSCAN XT:400L, XT:1460K, NXT:870, eċċ., Mhumiex inklużi fil-lista ta 'sanzjonijiet Olandiżi.
Il-lista ta’ kontroll Olandiża, kif tradotta minn Tibco, hija kif ġej:
Ir-Regolament MinBuza.2023.15246-27 maħruġ mill-Ministru tal-Kummerċ Barrani u l-Kooperazzjoni għall-Iżvilupp tal-Pajjiżi l-Baxxi jipprovdi għal rekwiżiti ta’ liċenzjar għall-esportazzjoni ta’ tagħmir ta’ produzzjoni avvanzat għal semikondutturi mhux imsemmija qabel fl-Anness I tar-Regolament Nru 2021/821 (relatat ma’ semikondutturi avvanzati). tagħmir tal-manifattura)
Artikolu 2: Dan ir-regolament jipprojbixxi l-esportazzjoni ta' tagħmir avvanzat ta' produzzjoni ta' semikondutturi mill-Olanda mingħajr il-permess tal-Ministru.
Artikolu 3:
1. L-applikazzjoni għall-permess imsemmi fl-Artikolu 2 għandha ssir mill-esportatur u tiġi sottomessa lill-prosekutur.
2. Fi kwalunkwe każ, l-applikazzjoni għandu jkun fiha:
a) l-isem u l-indirizz tal-esportatur;
b) L-isem u l-indirizz tar-riċevitur u l-utent aħħari tat-tagħmir avvanzat tal-manifattura tas-semikondutturi;
c) Isem u indirizz tar-riċevitur u l-utent aħħari tat-tagħmir avvanzat tal-manifattura tas-semikondutturi.
3, fi kwalunkwe każ, il-prosekutur għandu d-dritt li jitlob lill-esportatur biex jipprovdi l-kuntratt dwar l-esportazzjoni, u dikjarazzjoni dwar l-użu aħħari.
Artikolu 4:
Il-liċenzja deskritta fl-Artikolu 2, tista' tkun soġġetta għal kundizzjonijiet u dispożizzjonijiet.
L-għoti tal-liċenzja deskritta fl-Artikolu 2 jista' jeżisti bi kwalifiki.
Artikolu V:
Il-liċenzji msemmija fl-Artikolu II jistgħu jiġu revokati fil-każijiet li ġejjin:
a)Il-liċenzja nħarġet ibbażata fuq informazzjoni mhux kompluta jew mhux kompluta;
b)It-termini, il-kundizzjonijiet u r-restrizzjonijiet tal-liċenzja ma ġewx segwiti;
c) Għal raġunijiet ta' politika barranija u ta' sigurtà nazzjonali.
Ħin tal-post: Lulju-02-2023